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高功率窄譜寬:780nm寬條DFB激光器功率突破10W

高功率窄譜寬:780nm寬條DFB激光器功率突破10W

  • 分類:新聞中心
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2024-12-30
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【概要描述】在激光技術快速發展的今天,高功率和窄譜寬激光器已成為眾多科學與工業領域的核心需求。近日,ibetCTO、四川大學王俊教授研究團隊開發的一款780nm寬條分布反。―FB)激光器取得重大突破,室溫連續輸出功率超過10W。這項研究成果在光子學領域權威期刊《IEEE Photonics Journal》上發表,展現了團隊在高性能激光器設計方面的重要進展。

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高功率窄譜寬:780nm寬條DFB激光器功率突破10W

【概要描述】在激光技術快速發展的今天,高功率和窄譜寬激光器已成為眾多科學與工業領域的核心需求。近日,ibetCTO、四川大學王俊教授研究團隊開發的一款780nm寬條分布反。―FB)激光器取得重大突破,室溫連續輸出功率超過10W。這項研究成果在光子學領域權威期刊《IEEE Photonics Journal》上發表,展現了團隊在高性能激光器設計方面的重要進展。

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  • 發布時間:2024-12-30
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詳情

在激光技術快速發展的今天,高功率和窄譜寬激光器已成為眾多科學與工業領域的核心需求。近日,ibetCTO、四川大學王俊教授研究團隊開發的一款780nm寬條分布反。―FB)激光器取得重大突破,室溫連續輸出功率超過10W。這項研究成果在光子學領域權威期刊《IEEE Photonics Journal》上發表,展現了團隊在高性能激光器設計方面的重要進展。

 

研究背景   

 

780 nm激光器是堿金屬蒸汽激光器(DPAL)的關鍵泵浦光源,在精密科學、工業加工以及國防領域中具有廣泛需求。然而,傳統的Fabry-Pérot(FP)激光器雖然功率高,但光譜寬度過大且波長穩定性差,難以滿足應用需求。分布反。―FB)激光器因其嵌入布拉格光柵,可實現窄譜寬和良好的波長穩定性,成為理想選擇。然而,在實現高功率和窄譜寬兼顧的同時,仍存在諸多技術難題。DFB激光器發展歷程如圖1所示,相比于9xxnm器件,7xxnm 芯片的功率的發展是相對落后,這主要受到市場需求和材料的限制,需要解決的問題也就是功率提升和內置光柵的生長。780nm寬區DFB激光器的報道較少,在2005年,費迪南-布勞恩研究所(FBH)設計了50um條寬的780nm DFB激光器,功率為2.4W,這是迄今為止780nm DFB激光器的最高功率。對于抽運堿金屬激光系統,寬區DFB激光器在多個側模式下工作,會導致不可避免的光譜展寬,但它們可以提供十倍于RW器件的輸出功率。因此,開發高功率寬區780nm DFB激光器至關重要,為科學和工業應用帶來了新的可能。

 

 圖1 7xxnm與9xxnmDFB激光器的發展歷程

 

 

研究亮點 

 

四川大學電子信息學院及蘇州ibet光電技術股份有限公司王俊教授研究團隊聚焦于780 nm波長,深入研究了限制寬區DFB激光器輸出功率的因素,攻克了多個技術難點,如光柵設計和材料生長。設計了一種基于InGaAsP/InGaP材料的DFB激光器,結果如圖1所示,在室溫下實現了超過10 W的連續輸出功率,譜線寬度(FWHM)小于0.5 nm,可以在寬電流和寬溫度范圍內有效地工作。

 

圖1 780nm寬區DFB激光器外延結構及光柵層序

 

01|優化光柵設計

 

該研究團隊基于耦合模理論(CMT)構建了光柵分析模型,通過調整光柵耦合強度(κL控制在0.4-0.6之間)和光柵與量子阱的相對位置,計算結果如圖2所示,較小的光柵耦合系數會帶來外耦合光的比例增加,從而提高功率和效率。較遠的光柵位置顯著降低了光損耗和載流子復合的影響,確保了較高的輸出功率和低電壓。

 

圖2 (a)DFB激光器的諧振腔損耗隨光柵耦合強度的變化與等效FP前腔反射率隨光柵耦合強度的關系。(b)光柵耦合系數與光柵層到有源區的距離及光柵厚度的關系

 

02|材料與工藝創新

 

光柵區域采用了低損耗、低應力的三層InGaP/InGaAsP/InGaP結構,避免了傳統材料(如GaAsP)中因應力導致的光柵吸收和缺陷問題。優化的二次外延工藝進一步減少了界面氧污染,使氧含量降至1E16數量級,大幅提升了器件效率和可靠性。

 

圖3  (a) DFB在外延方向的橫截面和光柵的掃描電鏡(SEM)圖像,標記了二次外延的開始。插圖顯示了光柵的放大視圖。(b)lnGaAsP光柵的透射電鏡圖像,(c)傅里葉變換后的高分辨率圖像。

 

圖4 O和Al的SIMS譜圖,Al作為標記層。

 

03|卓越性能

 

研究人員在12 A電流和20 °C溫控下對器件進行了性能測試,如下圖5和圖6所示,激光器實現了連續輸出功率超過10 W,光譜寬度(FWHM)小于0.5 nm。這一功率水平創下了780 nm波段DFB激光器的最高紀錄,同時在寬電流與溫度范圍內保持了良好的鎖波特性。

 

圖5 (a) 780 nm DFB-BA激光器(實線)和FP-BA激光器(虛線)的性能進行比較,采用相同的垂直設計,在散熱器溫度為20“C的條件下進行測試。(b)在12a電流下,光譜圖

 

圖6 (a)溫度范圍為20°C~ 60°C,12a時DFB激光器的光譜特性 (b)連續變電流下DFB激光器在20°C時的光譜圖,強度用假色圖表示。

 

 

總結與展望

 

綜上,該團隊為高功率、窄譜寬激光器的發展樹立了新標桿。并將在未來進一步優化設計,以滿足更廣泛的工業和科研需求。此外,這項研究的技術方法還可推廣至其他波段的激光器設計。高功率窄譜寬激光器的應用前景無疑是廣闊的。從科學儀器到工業生產,再到醫療設備,它們將助力多個領域實現技術跨越。

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